Phenom Pharos G2 是飛納推出的臺式場發(fā)射掃描電鏡,可用于高分子薄膜微觀缺陷觀察,幫助分析孔洞、顆粒、斷面和表面結(jié)構(gòu)。
Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場發(fā)射電子槍,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 2,000,000 X,分辨率優(yōu)于 1.5 nm,適合對高分辨形貌、精細結(jié)構(gòu)和微納尺度特征有要求的研發(fā)與檢測場景。
該產(chǎn)品具備臺式化設(shè)計、低/中/高三種真空模式、背散射探測器、二次電子探測器,并可根據(jù)需求選配能譜探測器。具體配置和價格根據(jù)樣品類型、成像需求及功能配置確定,可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。
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